MBR膜(mo)地埋(mai)式汙水(shui)處(chu)理(li)裝置
汙(wu)水(shui)經格(ge)柵截留大顆粒(li)汙物後流(liu)入調(tiao)節池(chi)，調(tiao)節池(chi)采(cai)用(yong)曝(pu)氣式，以均衡(heng)水(shui)質(zhi)水(shui)量(liang)，並通過曝(pu)氣攪(jiao)拌(ban)避免(mian)汙(wu)物沈(chen)澱(dian)。調(tiao)節池(chi)後部(bu)設缺(que)氧(yang)池(chi)，好(hao)氧(yang)處(chu)理(li)采(cai)用(yong)兩級(ji)生(sheng)物接觸氧(yang)化(hua)。生(sheng)物接觸氧(yang)化(hua)是(shi)處理(li)流(liu)程中(zhong)重要的部(bu)分(fen)，大量(liang)有(you)機(ji)物在這裏(li)被(bei)細菌(jun)好(hao)氧(yang)降解(jie)。采(cai)用(yong)多(duo)級分(fen)段式接觸氧(yang)化(hua)，形成(cheng)逐級(ji)負荷遞(di)減(jian)系統(tong)，使(shi)接觸氧(yang)化(hua)在去(qu)除率、抗(kang)沖擊(ji)負荷、出水(shui)水(shui)質(zhi)等方(fang)面更具優(you)勢和(he)可(ke)靠性(xing)。
生(sheng)物接觸氧(yang)化(hua)出水(shui)再(zai)經過過濾、消毒(du)，即(ji)可(ke)完(wan)成(cheng)深度處(chu)理(li)中(zhong)水(shui)回(hui)用(yong)。
工(gong)藝流(liu)程：
為了(le)達到(dao)排放(fang)要求，處(chu)理(li)工(gong)藝采(cai)用(yong)以生(sheng)化(hua)處理(li)A/O法為主處理(li)的(de)二級處(chu)理(li)法A/O工藝，即(ji)缺氧(yang)—好(hao)氧(yang)汙(wu)水(shui)處(chu)理(li)工(gong)藝，該(gai)工(gong)藝具有(you)適應能(neng)力強(qiang)，耐(nai)沖擊(ji)負荷，高(gao)容(rong)積(ji)負荷，不(bu)產生(sheng)汙(wu)泥(ni)膨(peng)脹(zhang)，排泥(ni)量少，脫(tuo)氮(dan)效果較(jiao)好(hao)等特(te)點，特(te)別(bie)適合於中(zhong)小型汙(wu)水(shui)處(chu)理(li)站(zhan)選(xuan)用(yong)。
A/0工(gong)藝由(you)缺(que)氧(yang)池(chi)和(he)好(hao)氧(yang)池(chi)串(chuan)聯(lian)而成(cheng)，在去(qu)除有機(ji)物的同時(shi)可(ke)以取得(de)良(liang)好(hao)的脫(tuo)氮(dan)效果。該(gai)工(gong)藝的(de)顯(xian)著(zhu)特(te)點是(shi)將(jiang)脫(tuo)氮(dan)池(chi)設(she)置(zhi)在除碳(tan)過程的前(qian)部(bu)，即(ji)：先將(jiang)汙(wu)水(shui)引(yin)入(ru)缺(que)氧(yang)池(chi)，回(hui)流(liu)汙(wu)泥(ni)中(zhong)的(de)反(fan)硝化(hua)菌(jun)利(li)用(yong)原汙水(shui)中(zhong)的(de)有(you)機(ji)物作為(wei)碳(tan)源，將(jiang)回(hui)流(liu)混(hun)合液(ye)中(zhong)的(de)大量(liang)硝態氮(dan)（NO—x-N）還原成(cheng)N：，從(cong)而達到(dao)脫(tuo)氮(dan)的目(mu)的(de)；汙(wu)水(shui)接著進入(ru)好(hao)氧(yang)池(chi)，大部(bu)分(fen)有機(ji)物在此(ci)得到(dao)消(xiao)化(hua)降解(jie)，好(hao)氧(yang)池(chi)後設(she)置二沈(chen)池(chi)，部(bu)分(fen)沈(chen)澱(dian)汙(wu)泥(ni)回流(liu)至(zhi)缺(que)氧(yang)池(chi)，以提供(gong)充足(zu)的(de)微(wei)生(sheng)物，同時(shi)將(jiang)好(hao)氧(yang)池(chi)內(nei)混(hun)合液(ye)回(hui)流至缺(que)氧(yang)池(chi)，以保證缺(que)氧(yang)池(chi)有(you)足(zu)夠的(de)硝酸(suan)鹽。
MBR膜地埋(mai)式汙水(shui)處(chu)理(li)裝置缺(que)氧(yang)池(chi)
缺(que)氧(yang)池(chi)壹(yi)般采(cai)用(yong)上(shang)流(liu)式汙泥(ni)床反(fan)應(ying)器的(de)形(xing)式，設計水(shui)力停(ting)留(liu)時間(jian)為2—4小時，池(chi)底(di)為(wei)汙(wu)泥(ni)床，汙(wu)泥(ni)床厚(hou)度通常控(kong)制(zhi)在l壹(yi)1．2m之(zhi)間，進水(shui)系(xi)統可(ke)采(cai)用(yong)脈(mai)沖進水(shui)中(zhong)阻(zu)力布水(shui)系(xi)統，底(di)部(bu)設布水(shui)管(guan)，運(yun)行(xing)時(shi)汙(wu)泥(ni)呈(cheng)懸浮狀態。汙泥(ni)床平(ping)均濃(nong)度(du)為(wei)30—359／L，汙泥(ni)負荷為O．30—0．35kgBOD，（kgMLSs·d），汙水(shui)中(zhong)DO濃(nong)度(du)小於0．2m∥Lo
好(hao)氧(yang)池(chi)
基本原理(li)
好(hao)氧(yang)池(chi)是(shi)利用(yong)汙(wu)水(shui)中(zhong)的(de)好(hao)氧(yang)微(wei)生(sheng)物在有遊(you)離氧(yang)（分(fen)子(zi)氧(yang)）存(cun)在的條(tiao)件(jian)下，消化(hua)、降解(jie)汙(wu)水(shui)中(zhong)的(de)有(you)機(ji)物，使其(qi)穩定(ding)化(hua)、無害(hai)化(hua)的處(chu)理(li)裝置。好(hao)氧(yang)池(chi)壹(yi)般為(wei)接觸氧(yang)化(hua)池(chi)的(de)形(xing)式，池(chi)內(nei)設(she)置(zhi)有(you)填料(liao)，已經充(chong)氧(yang)的(de)汙水(shui)浸(jin)沒全(quan)部(bu)填料(liao)，並以壹(yi)定(ding)的流速(su)流(liu)經填料(liao)。微(wei)生(sheng)物壹(yi)部(bu)分(fen)以生(sheng)物膜的(de)形式固著於填料(liao)表面，壹(yi)部(bu)分(fen)則以絮狀懸浮於水(shui)中(zhong)，因(yin)此(ci)它兼(jian)有(you)生(sheng)物濾池(chi)和(he)活(huo)性(xing)汙泥(ni)法的特(te)點。接觸氧(yang)化(hua)池(chi)中(zhong)微(wei)生(sheng)物所(suo)需的氧(yang)通常由(you)人(ren)工曝(pu)氣供給(gei)。生(sheng)物膜生(sheng)長至(zhi)壹(yi)定(ding)厚(hou)度後，近填料(liao)壁的微(wei)生(sheng)物將(jiang)由(you)於缺(que)氧(yang)而進行(xing)厭氧(yang)代(dai)謝(xie)，產生(sheng)的(de)氣(qi)體(ti)及曝(pu)氣形成(cheng)的(de)沖刷作(zuo)用(yong)造(zao)成(cheng)部(bu)分(fen)生(sheng)物膜脫(tuo)落(luo)，促(cu)進了(le)新生(sheng)物膜的(de)生(sheng)長，形(xing)成(cheng)生(sheng)物的新陳(chen)代(dai)謝(xie)。脫(tuo)落(luo)的(de)生(sheng)物膜隨(sui)出水(shui)進入(ru)後續的(de)二沈(chen)池(chi)。
接觸氧(yang)化(hua)池(chi)構(gou)造(zao)
接觸氧(yang)化(hua)池(chi)由(you)池(chi)體(ti)、填料(liao)、布水(shui)裝置和(he)曝(pu)氣系統(tong)組(zu)成(cheng)，其(qi)中(zhong)填料(liao)和(he)曝(pu)氣系統(tong)是(shi)接觸氧(yang)化(hua)池(chi)的(de)重要組成(cheng)部(bu)分(fen)。填料(liao)是(shi)微生(sheng)物的載體(ti)，其特(te)性(xing)對(dui)接觸氧(yang)化(hua)池(chi)中(zhong)微(wei)生(sheng)物的數(shu)量(liang)、氧(yang)的(de)利用(yong)率、水(shui)流(liu)條件(jian)及(ji)汙(wu)水(shui)與(yu)生(sheng)物膜的(de)接觸狀況(kuang)等起(qi)著重要的作(zuo)用(yong)。填料(liao)要求具有(you)比表面積(ji)大、空(kong)隙(xi)率大、水(shui)力阻(zu)力小、強(qiang)度(du)大、化(hua)學和(he)生(sheng)物穩定(ding)性好(hao)、經久耐(nai)用(yong)等(deng)特(te)點。生(sheng)活(huo)汙(wu)水(shui)中(zhong)汙(wu)染(ran)物濃度(du)較低(di)，生(sheng)物膜較(jiao)薄(bo)，為(wei)增加(jia)生(sheng)物膜中(zhong)微(wei)生(sheng)物數(shu)量(liang)，可(ke)選擇易(yi)於掛(gua)膜(mo)和比表面積(ji)較(jiao)大的(de)軟性(xing)纖(xian)維(wei)填料(liao)，如(ru)尼(ni)龍、維(wei)綸、晴綸等。壹(yi)般情況(kuang)下，填料(liao)層(ceng)高(gao)度(du)為(wei)3．0m左(zuo)右，填料(liao)層(ceng)上(shang)水(shui)層(ceng)高(gao)度(du)約(yue)0．5m，填料(liao)層(ceng)與(yu)池(chi)底(di)高(gao)度(du)為(wei)0．5—1．5m。曝(pu)氣系統(tong)按(an)供(gong)氣(qi)方式可(ke)分(fen)為鼓(gu)風(feng)曝(pu)氣、機(ji)械曝(pu)氣和射(she)流(liu)曝(pu)氣，其中(zhong)，射(she)流(liu)曝(pu)氣又可(ke)以細分(fen)為強(qiang)制(zhi)供氣式和自(zi)吸供(gong)氣式，強(qiang)制(zhi)供氣式利用(yong)鼓(gu)風(feng)機(ji)向(xiang)射(she)流(liu)器供(gong)給(gei)空(kong)氣(qi)，自(zi)吸供(gong)氣式由(you)射(she)流(liu)器噴(pen)嘴(zui)噴出高(gao)速(su)射(she)流(liu)，使(shi)吸(xi)氣室形成(cheng)負壓，將(jiang)空(kong)氣(qi)吸入。中(zhong)小型生(sheng)活(huo)汙(wu)水(shui)處(chu)理(li)站(zhan)壹(yi)般建(jian)設在小區附(fu)近，且(qie)常采(cai)用(yong)地(di)埋式或半地(di)埋式，因此(ci)，曝(pu)氣方式宜(yi)選(xuan)擇自(zi)吸供(gong)氣式射(she)流(liu)曝(pu)氣，該(gai)曝(pu)氣方式的優點是(shi)：氧(yang)吸(xi)收率高(gao)、充(chong)氧(yang)能(neng)力強(qiang)；汙(wu)泥(ni)活(huo)性(xing)及其沈(chen)降性(xing)能(neng)好；構(gou)造(zao)簡(jian)單(dan)、運(yun)轉(zhuan)靈(ling)活(huo)、便(bian)於調(tiao)節、維護管(guan)理(li)方(fang)便(bian)；運(yun)行(xing)噪(zao)聲(sheng)較低(di)，適宜(yi)在小區內使(shi)用(yong)。
接觸氧(yang)化(hua)池(chi)工(gong)藝(yi)設(she)計(ji)
接觸氧(yang)化(hua)池(chi)工(gong)藝(yi)參(can)數(shu)設(she)計主要包括(kuo)池(chi)子(zi)有效(xiao)容(rong)積(ji)、接觸時間和(he)空(kong)氣(qi)量等。有效(xiao)容(rong)積(ji)與(yu)處理(li)水(shui)量(liang)、進出水(shui)BOD濃(nong)度及(ji)容(rong)積(ji)負荷有關(guan)；汙水(shui)在池(chi)內(nei)的(de)有(you)效(xiao)接觸時間不(bu)得(de)少於2h；池(chi)中(zhong)溶(rong)解氧(yang)含(han)量壹(yi)般維(wei)持在2．5mg／L壹(yi)3．5mg／L之(zhi)間，氣水(shui)比約(yue)為(wei)15—20：1。
MBR膜(mo)地(di)埋(mai)式汙水(shui)處(chu)理(li)裝置膜(mo)生(sheng)物反應(ying)器簡(jian)介(jie)
膜生(sheng)物反應(ying)器（MBR）是(shi)膜分(fen)離技術與生(sheng)物汙水(shui)處(chu)理(li)技術相結合(he)的新型(xing)態廢水(shui)處(chu)理(li)系(xi)統。其(qi)主要組成(cheng)部(bu)分(fen)包括(kuo)生(sheng)物反應(ying)器、膜(mo)組(zu)件(jian)和(he)控(kong)制(zhi)系統。其(qi)中(zhong)，生(sheng)物反應(ying)器主要發生(sheng)汙(wu)染(ran)物降解(jie)，為(wei)該(gai)降解(jie)過程提供(gong)場(chang)所(suo)。膜組(zu)件(jian)由(you)膜(mo)和(he)其(qi)支(zhi)撐部(bu)分(fen)組成(cheng)，是(shi)整個反應(ying)器的(de)核心(xin)部(bu)分(fen)。
由(you)於膜(mo)組件(jian)的(de)不(bu)同及(ji)膜組(zu)件(jian)與(yu)生(sheng)物反應(ying)器不(bu)同的(de)結合(he)方式，MBR可(ke)以有多(duo)種分(fen)類方(fang)法：
（1）根據(ju)生(sheng)物反應(ying)器中(zhong)膜(mo)組(zu)件(jian)膜(mo)的(de)孔(kong)徑大小，MBR反應(ying)器可(ke)分(fen)為微(wei)濾(lv)、超濾、納(na)濾、滲(shen)透汽(qi)化(hua)等反(fan)應(ying)器。
（2）根據(ju)生(sheng)物反應(ying)器反(fan)應(ying)過程是(shi)否需要曝(pu)氣可(ke)以分(fen)為好(hao)氧(yang)型(xing)膜生(sheng)物反應(ying)器和(he)厭氧(yang)型(xing)膜生(sheng)物反應(ying)器。其(qi)中(zhong)好(hao)氧(yang)型(xing)主要用(yong)於處(chu)理(li)城(cheng)市廢(fei)水(shui)和(he)生(sheng)活(huo)汙(wu)水(shui)，厭氧(yang)型(xing)主要處理(li)高(gao)濃(nong)度(du)有(you)機(ji)廢(fei)水(shui)。
（3）根據(ju)膜(mo)組件(jian)中(zhong)膜(mo)的(de)形(xing)式及排列方(fang)法，MBR可(ke)以分(fen)為板(ban)框(kuang)式、螺(luo)旋(xuan)卷(juan)式、圓管(guan)式、毛(mao)細管(guan)式和中(zhong)空(kong)纖(xian)維(wei)式膜組件(jian)。其(qi)中(zhong)，常見的有(you)板框(kuang)式和中(zhong)空(kong)纖(xian)維(wei)式。
（4）根據(ju)膜(mo)組件(jian)作(zuo)用(yong)效(xiao)果，其(qi)可(ke)以分(fen)為分(fen)離式MBR、曝(pu)氣式MBR和萃取(qu)式MBR，分(fen)離式主要用(yong)來去(qu)除汙水(shui)中(zhong)的(de)懸浮顆粒(li)，地完(wan)成(cheng)固(gu)液分(fen)離。曝(pu)氣式主要應用(yong)於高(gao)需氧(yang)量(liang)廢水(shui)的(de)處理(li)。萃(cui)取式主要用(yong)於工(gong)業(ye)廢水(shui)處(chu)理(li)中(zhong)，用(yong)來完(wan)成(cheng)廢(fei)水(shui)中(zhong)汙(wu)染(ran)物的萃(cui)取收(shou)集(ji)。
（5）根據(ju)膜(mo)組件(jian)與(yu)生(sheng)物反應(ying)器的(de)位(wei)置擺(bai)放(fang)不(bu)同，MBR可(ke)分(fen)為分(fen)置式和壹(yi)體(ti)式膜生(sheng)物反應(ying)器。分(fen)置式膜生(sheng)物反應(ying)器又(you)稱循環(huan)式膜生(sheng)物反應(ying)器，混(hun)合液(ye)通過增壓進入(ru)組(zu)件(jian)內(nei)部(bu)，在壓力作(zuo)用(yong)下，液體(ti)透過膜而固(gu)體(ti)顆粒(li)被(bei)截留(liu)，濃縮(suo)液(ye)回(hui)流至(zhi)生(sheng)物反應(ying)器進行(xing)循(xun)環。而壹(yi)體(ti)式則是(shi)直接將(jiang)膜(mo)組(zu)件(jian)放(fang)在反應(ying)器內(nei)部(bu)。
MBR的特(te)點
與傳統的(de)水(shui)處(chu)理(li)方(fang)法相比，MBR有(you)以下幾(ji)個比較(jiao)明(ming)顯(xian)的(de)特(te)點：
（1）MBR可(ke)以有效(xiao)地(di)截(jie)留汙水(shui)中(zhong)的(de)微(wei)生(sheng)物，實現(xian)了(le)汙泥(ni)齡(ling)和(he)水(shui)力停(ting)留(liu)時間(jian)的分(fen)離。通過調整汙泥(ni)齡(ling)的(de)大小，使得(de)生(sheng)長周(zhou)期(qi)較(jiao)長的(de)微(wei)生(sheng)物如硝化(hua)細菌(jun)及(ji)反硝化(hua)細菌(jun)也(ye)可(ke)以成(cheng)為(wei)優勢菌(jun)種，在壹(yi)定(ding)程度上(shang)可(ke)以提高(gao)整個反應(ying)器的(de)脫(tuo)氮(dan)效率，使(shi)得(de)運(yun)行(xing)更加(jia)靈活(huo)穩(wen)定。
（2）MBR有較(jiao)高(gao)的(de)固(gu)液(ye)分(fen)離效率，出水(shui)效(xiao)果良(liang)好(hao)且穩(wen)定(ding)，受進水(shui)水(shui)質(zhi)影響(xiang)小。由(you)於膜(mo)的截(jie)留作用(yong)，反(fan)應器中(zhong)較(jiao)大的(de)顆粒(li)物、大分(fen)子(zi)的有(you)機(ji)物、細菌(jun)等(deng)均被(bei)截留(liu)在膜的(de)進水(shui)側。同時(shi)不(bu)用(yong)考(kao)慮(lv)汙泥(ni)膨(peng)脹(zhang)。
（3）汙(wu)泥(ni)濃度(du)高(gao)，剩(sheng)余(yu)汙(wu)泥(ni)產量(liang)小。MBR可(ke)以在高(gao)容(rong)積(ji)負荷及低(di)汙(wu)泥(ni)負荷條件(jian)下運(yun)行(xing)，剩(sheng)余(yu)汙(wu)泥(ni)產量(liang)低(di)，大大降低(di)了(le)後續的(de)處理(li)費(fei)用(yong)。
（4）MBR反(fan)應器結構(gou)緊(jin)湊(cou)，工(gong)藝設備(bei)集(ji)中(zhong)，因(yin)此(ci)占地(di)面積(ji)也(ye)較(jiao)小，易(yi)實現(xian)壹(yi)體(ti)化(hua)自(zi)動控(kong)制(zhi)，操(cao)作(zuo)管(guan)理(li)方(fang)便(bian)。
盡管(guan)MBR具有(you)上(shang)述(shu)特(te)點，但也(ye)存(cun)在缺點，如膜汙染(ran)嚴重、氧(yang)利(li)用(yong)率低(di)、投(tou)資成(cheng)本(ben)高(gao)、水(shui)處(chu)理(li)能(neng)耗(hao)較(jiao)高(gao)、化(hua)學清(qing)洗廢液會造(zao)成(cheng)二次汙(wu)染(ran)等。實際應用(yong)中(zhong)膜(mo)汙(wu)染(ran)是(shi)影響(xiang)MBR推廣(guang)的大限(xian)制(zhi)因素。
膜(mo)汙染
1.膜汙染形成(cheng)原因
膜汙染是(shi)指反(fan)應器在運(yun)行(xing)過程中(zhong)由(you)於廢(fei)水(shui)中(zhong)的(de)微(wei)小顆粒(li)、膠體(ti)或大分(fen)子(zi)溶(rong)質(zhi)在膜表面發生(sheng)物理(li)化(hua)學等(deng)相(xiang)互(hu)作(zuo)用(yong)而造(zao)成(cheng)的(de)膜孔(kong)堵(du)塞(sai)現(xian)象(xiang)。汙(wu)染的類型(xing)主要表現(xian)為(wei)孔(kong)口(kou)堵塞(sai)、孔(kong)內(nei)沈(chen)積(ji)、和(he)表面汙染(汙泥(ni)層(ceng)形(xing)成(cheng))以及各(ge)種汙染(ran)形(xing)式的組合(he)。膜汙(wu)染主要分(fen)為以下幾(ji)類：
（1）短(duan)期(qi)汙(wu)染(ran)，短(duan)時間內(nei)由(you)於濃(nong)差(cha)極化(hua)、凝膠層(ceng)的(de)形成(cheng)使(shi)膜通量(liang)急(ji)劇下降，其(qi)為(wei)可(ke)逆(ni)汙染(ran)，通過反洗，可(ke)以迅(xun)速(su)去(qu)除恢復。
（2）長期(qi)汙(wu)染(ran)，廢(fei)水(shui)中(zhong)的(de)微(wei)小顆粒(li)與膜(mo)表面發生(sheng)的(de)長期(qi)作(zuo)用(yong)而產生(sheng)的(de)膜(mo)汙染現(xian)象(xiang)，其(qi)為不(bu)可(ke)逆(ni)汙染(ran)，可(ke)以通過化(hua)學藥劑(ji)清(qing)洗方法恢復。
（3）不(bu)可(ke)逆(ni)膜汙(wu)染(ran)，由(you)於反(fan)應器的(de)長期(qi)運(yun)行(xing)而產生(sheng)的(de)不(bu)能(neng)被(bei)去(qu)除的汙染(ran)。
