牙(ya)科(ke)診所(suo)用(yong)的(de)汙(wu)水(shui)處理設備(bei)

 “汙(wu)水(shui)處理是(shi)壹(yi)個系(xi)統性(xing)工(gong)程(cheng)，水(shui)體中(zhong)汙(wu)染(ran)物的(de)去(qu)除(chu)通(tong)常是(shi)多種機(ji)理共(gong)同作(zuo)用(yong)的(de)結(jie)果(guo)。
汙(wu)水(shui)處理工(gong)藝分(fen)三(san)級(ji)：
壹(yi)級(ji)處理：通(tong)過(guo)機(ji)械(xie)處理，如(ru)格(ge)柵(zha)、沈澱(dian)或(huo)氣浮，去除(chu)汙(wu)水(shui)中(zhong)所(suo)含的(de)石(shi)塊、砂石(shi)和(he)脂肪(fang)、油脂(zhi)等(deng)。
二(er)級(ji)處理：生(sheng)物(wu)處理，汙(wu)水(shui)中(zhong)的(de)汙(wu)染(ran)物在(zai)微生(sheng)物(wu)的(de)作(zuo)用(yong)下(xia)被降(jiang)解和(he)轉(zhuan)化(hua)為(wei)汙(wu)泥(ni)。
三(san)級(ji)處理：汙(wu)水(shui)的(de)深(shen)度(du)處理，它(ta)包(bao)括(kuo)營(ying)養(yang)物(wu)的(de)去(qu)除(chu)和(he)通(tong)過(guo)加(jia)氯、紫外輻射或(huo)臭(chou)氧技(ji)術對汙(wu)水(shui)進(jin)行(xing)消(xiao)毒。
可能根(gen)據處理的(de)目(mu)標和(he)水(shui)質(zhi)的(de)不(bu)同(tong)，有(you)的(de)汙(wu)水(shui)處理過(guo)程(cheng)並(bing)不是(shi)包(bao)含上(shang)述所(suo)有過(guo)程(cheng)。

壹(yi)級(ji)處理(機(ji)械(xie)處理)
機(ji)械(xie)(壹(yi)級(ji))處理工(gong)段包(bao)括(kuo)格(ge)柵(zha)、沈砂池(chi)、初(chu)沈池(chi)等(deng)構築(zhu)物，以去除(chu)粗(cu)大(da)顆粒和(he)懸(xuan)浮物為(wei)目(mu)的(de)，處理的(de)原(yuan)理在(zai)於通(tong)過(guo)物(wu)理法(fa)實(shi)現(xian)固液分(fen)離(li)，將(jiang)汙(wu)染(ran)物從汙(wu)水(shui)中(zhong)分(fen)離(li)，這是(shi)普遍(bian)采(cai)用(yong)的(de)汙(wu)水(shui)處理方(fang)式(shi)。
機(ji)械(xie)(壹(yi)級(ji))處理是(shi)所(suo)有汙(wu)水(shui)處理工(gong)藝流(liu)程(cheng)*工(gong)程(cheng)(盡(jin)管(guan)有時(shi)有些工(gong)藝流(liu)程(cheng)省(sheng)去初沈池(chi))，城市(shi)汙(wu)水(shui)壹(yi)級(ji)處理BOD5和(he)SS的(de)典(dian)型(xing)去(qu)除(chu)率(lv)分(fen)別(bie)為25%和(he)50%。在(zai)生(sheng)物(wu)除(chu)磷(lin)脫(tuo)氮(dan)型(xing)汙(wu)水(shui)處理廠，壹(yi)般不推(tui)薦(jian)曝(pu)氣(qi)沈(chen)砂(sha)池，以避免快(kuai)速(su)降解有機(ji)物的(de)去(qu)除(chu);在(zai)原(yuan)汙(wu)水(shui)水(shui)質(zhi)特性(xing)不利(li)於除(chu)磷(lin)脫(tuo)氮(dan)的(de)情況下(xia)，初(chu)沈的(de)設(she)置(zhi)與(yu)否(fou)以及設置(zhi)方(fang)式(shi)需(xu)要根據水(shui)質(zhi)特性(xing)的(de)後(hou)續工(gong)藝加(jia)以(yi)仔細分析(xi)和(he)考慮(lv)，以保(bao)證(zheng)和(he)改善(shan)除(chu)磷(lin)除(chu)脫(tuo)氮(dan)等(deng)後(hou)續工(gong)藝的(de)進(jin)水(shui)水(shui)質(zhi)。

 影響懸(xuan)浮微生(sheng)物(wu)活(huo)性(xing)的(de)因(yin)素(su)主要有如(ru)下(xia)幾種：
(1)當(dang)懸(xuan)浮微生(sheng)物(wu)的(de)生(sheng)物(wu)活(huo)性(xing)較高(gao)時(shi)，其(qi)分(fen)泌胞(bao)外多聚(ju)物(wu)的(de)能力(li)較(jiao)強。這種粘(zhan)性(xing)的(de)胞(bao)外多聚(ju)物(wu)在(zai)細菌與載(zai)體之(zhi)間起(qi)到了(le)生(sheng)物(wu)粘(zhan)合(he)劑(ji)的(de)作(zuo)用(yong)，使(shi)得細菌易於在(zai)載體表面附(fu)著、固定;

牙(ya)科(ke)診所(suo)用(yong)的(de)汙(wu)水(shui)處理設備(bei)(2)微生(sheng)物(wu)所(suo)處的(de)能量(liang)水(shui)平(ping)直接(jie)與它(ta)們(men)的(de)增(zeng)長率(lv)相關(guan)。當盧(lu)增(zeng)加(jia)時(shi)，懸(xuan)浮微生(sheng)物(wu)的(de)動(dong)能隨(sui)之增(zeng)加。這些能量(liang)有(you)助(zhu)於克服(fu)在(zai)固定化(hua)過(guo)程(cheng)中(zhong)微生(sheng)物(wu)載(zai)體表面間的(de)能壘(lei)，使(shi)得細菌初始(shi)積累速(su)率(lv)與(yu)懸(xuan)浮細菌活(huo)性(xing)成正比(bi);
(3)微生(sheng)物(wu)的(de)表面結(jie)構隨(sui)著其(qi)活(huo)性(xing)的(de)不(bu)同(tong)而(er)相應(ying)變化(hua)。

懸(xuan)浮細菌活(huo)性(xing)對細菌在(zai)載體表面的(de)附(fu)著固定過(guo)程(cheng)有影響，而且，細菌表面的(de)化(hua)學(xue)組(zu)成、官能團(tuan)的(de)量(liang)也(ye)隨(sui)細菌活(huo)性(xing)的(de)變化(hua)有(you)顯著變化(hua)。細胞膜(mo)等(deng)隨(sui)懸(xuan)浮細菌活(huo)性(xing)的(de)變化(hua)而(er)有顯著變化(hua)。細菌表面的(de)這些變化(hua)將(jiang)直接(jie)影響微生(sheng)物(wu)在(zai)載體表面的(de)附(fu)著、固定。因(yin)此，通(tong)常認(ren)為，由(you)懸(xuan)浮微生(sheng)物(wu)活(huo)性(xing)變化(hua)而(er)引起(qi)的(de)細菌表面生(sheng)理狀(zhuang)態或(huo)分子(zi)組(zu)成的(de)變化(hua)是(shi)有利(li)於細菌在(zai)載體表面附(fu)著、固定的(de);
(4)微生(sheng)物(wu)與(yu)載(zai)體接(jie)觸(chu)時(shi)間。微生(sheng)物(wu)在(zai)載體表面附(fu)著、固定是(shi)—動態(tai)過(guo)程(cheng)。微生(sheng)物(wu)與(yu)載(zai)體表面接(jie)觸(chu)後(hou)，需要壹(yi)個相對穩定的(de)環(huan)境(jing)條件(jian)，因(yin)此必須保(bao)證(zheng)微生(sheng)物(wu)在(zai)載體表面停(ting)留(liu)壹(yi)定時(shi)間，完成微生(sheng)物(wu)在(zai)載體表面的(de)增(zeng)長過(guo)程(cheng);
(5)水(shui)力(li)停(ting)留(liu)時(shi)間(HRT)。HRT對能否(fou)形成完整(zheng)的(de)生(sheng)物(wu)膜(mo)起(qi)著(zhe)重(zhong)要的(de)作(zuo)用(yong)。在(zai)其(qi)他(ta)條件(jian)確(que)定的(de)情況下(xia)，HRT短(duan)則有機(ji)容積負荷大(da)，當(dang)稀(xi)釋率(lv)大(da)於大(da)生(sheng)長率(lv)時(shi)，反應(ying)器內載(zai)體上(shang)能生(sheng)成完整(zheng)的(de)生(sheng)物(wu)膜(mo)。在(zai)COD負荷(he)為2.5kg/(m3·d)，HRT為(wei)4h時(shi)，載體上(shang)幾乎(hu)沒(mei)有(you)完整(zheng)的(de)生(sheng)物(wu)膜(mo)，而(er)水(shui)力(li)停(ting)留(liu)時(shi)間為1h時(shi)，在(zai)相同(tong)的(de)操作時(shi)間內幾乎(hu)所(suo)有的(de)載(zai)體上(shang)都長有(you)完(wan)整(zheng)的(de)生(sheng)物(wu)膜(mo)，且較(jiao)高(gao)的(de)表面COD負(fu)荷(he)更易生(sheng)成較厚的(de)生(sheng)物(wu)膜(mo)，即(ji)COD負(fu)荷越高，生(sheng)物(wu)膜(mo)越(yue)厚。周(zhou)平(ping)等人(ren)也通(tong)過(guo)試(shi)驗證(zheng)明(ming)了(le)較短的(de)水(shui)力(li)停(ting)留(liu)時(shi)間有利於載體掛膜(mo);