武威壹體化汙(wu)水處(chu)理設(she)備公(gong)司(si)生物膜(mo)形(xing)成(cheng)的(de)關鍵(jian)是(shi)在其(qi)載(zai)體表(biao)面的(de)固定。影(ying)響微生物在(zai)載(zai)體,表(biao)面附著、生長的(de)因素很多(duo),歸納為三類,即(ji)微生物的(de)自(zi)身性(xing)質(zhi)(種類、培(pei)養(yang)條件、濃(nong)度、活(huo)性(xing)等(deng))、載(zai)體表(biao)面性(xing)質(zhi)(表面親水性(xing)、表(biao)面負荷(he)、表面化學組成、表(biao)面粗糙(cao)度(du)等(deng))以(yi)及(ji)環(huan)境條件(pH、離(li)子(zi)強(qiang)度(du)、水流(liu)剪(jian)切(qie)力(li)、溫(wen)度(du)等(deng))。
產(chan)品(pin)時間(jian):2024-09-10
武威壹體化汙(wu)水處(chu)理設(she)備公(gong)司(si)
專(zhuan)業(ye)處(chu)理生活(huo)汙水、醫(yi)療(liao)汙水、屠宰汙水、養(yang)殖(zhi)汙(wu)水、洗(xi)滌汙(wu)水、噴(pen)漆(qi)汙水、塑(su)料(liao)清洗(xi)汙水、食品(pin)加(jia)工汙(wu)水、工(gong)業(ye)汙(wu)水等(deng)。
對(dui)應的(de)汙(wu)水處(chu)理設(she)備:壹體化汙(wu)水處(chu)理設(she)備、氣浮機(ji)、二氧(yang)化氯發(fa)生器(qi)、加(jia)藥(yao)裝(zhuang)置、斜(xie)管(guan)沈澱(dian)池(chi)、UASB厭(yan)氧設(she)備、壹體化泵(beng)站。
有項目(mu)可(ke)以隨時聯系我們,我們會幫(bang)您提(ti)供設(she)計、選型、設(she)備加(jia)工、運(yun)輸、安裝(zhuang)、培訓等(deng)壹(yi)系(xi)列服(fu)務。
A/O生物濾池(chi)處(chu)理工(gong)藝
工(gong)藝簡介
由於我國(guo)小(xiao)城鎮居(ju)住點分(fen)散,汙水源(yuan)分(fen)布點多(duo)量少(shao),城鎮級汙水廠(chang)的(de)規(gui)模多(duo)低於10000噸(dun)/日。目(mu)前(qian)國(guo)內(nei)大中型(xing)城市汙(wu)水處(chu)理廠(chang)經(jing)常(chang)采用(yong)的(de)處(chu)理技(ji)術(shu)有傳統活(huo)性(xing)汙(wu)泥(ni)法、A2/O、SBR、氧(yang)化溝(gou)等(deng),如(ru)果(guo)以這(zhe)些技術(shu)建設(she)小城鎮汙(wu)水處(chu)理廠(chang)會造成由於居高不(bu)下(xia)的(de)運(yun)行(xing)費用,無法正常(chang)運行(xing)。必(bi)須針(zhen)對(dui)小(xiao)城鎮的(de)特點采用(yong)投(tou)資省(sheng),運行(xing)費用低,技(ji)術(shu)穩定可(ke)靠,操(cao)作與管(guan)理相(xiang)對簡單的(de)工(gong)藝。
工(gong)藝特點
① 采用(yong)SNP特種懸浮型生物填(tian)料,系(xi)統(tong)汙泥(ni)濃(nong)度高,停留時間(jian)短。 ② 厭(yan)氧生物濾池(chi):能(neng)耗低,為(wei)活(huo)性(xing)汙(wu)泥(ni)法的(de)十(shi)分(fen)之壹(yi),產(chan)泥(ni)量很少(shao)。 ③ 好氧生物濾池(chi):停留時間(jian)短,保(bao)證(zheng)出水達(da)標(biao)。 ④ 所有設(she)備可(ke)以采用利(li)浦(pu)罐(guan)或(huo)拼裝鋼(gang)結構,具(ju)有施(shi)工(gong)周(zhou)期(qi)短,投(tou)資低,占地(di)節約,外(wai)觀美(mei)觀的(de)特點。 ⑤ 處(chu)理效(xiao)果(guo)好,運行(xing)穩定,占地(di)較小(xiao),操(cao)作管理(li)簡單,運(yun)行(xing)靈活(huo)性(xing)強(qiang)。 ⑥ 低投(tou)資,低運(yun)行(xing)費,尤(you)其(qi)適合(he)於規模低於2000~10000噸(dun)/日以下(xia)的(de)小(xiao)城鎮汙(wu)水處(chu)理廠(chang)。 ⑦ 維(wei)修檢修工作(zuo)量低,需(xu)要(yao)運行(xing)操(cao)作人員(yuan)的(de)要(yao)求(qiu)相(xiang)對也較低。
應用範圍
2000~10000噸(dun)/日以下(xia)的(de)小(xiao)城鎮汙(wu)水處(chu)理廠(chang)
改(gai)良 A2/O 工(gong)藝
改(gai)良 A2/O 工(gong)藝綜(zong)合了(le)A2/O 工藝和(he)改(gai)良UCT的(de)優(you)點,有著良好的(de)生物脫(tuo)氮(dan)除磷效(xiao)果(guo),脫(tuo)氮(dan)能力高(gao)於 A2/O 工藝。改(gai)良A2/O 工(gong)藝處(chu)理流(liu)程(cheng)簡圖(tu)如下(xia):
技(ji)術(shu)特點與優(you)勢:
出水水質(zhi)高
改(gai)良 A2/O 工(gong)藝工(gong)藝原(yuan)理是(shi)針(zhen)對(dui)高(gao)效(xiao)生物脫(tuo)氮(dan)除磷,工(gong)藝運(yun)行(xing)可(ke)靠,節省化學藥(yao)劑使用。 運(yun)行(xing)管理(li)方便
改(gai)良 A2/O 工(gong)藝抗(kang)沖擊(ji)負荷能力(li)強,運(yun)行(xing)穩定。
汙泥(ni)肥效(xiao)高(gao)
改(gai)良 A2/O 工(gong)藝剩(sheng)余汙泥(ni)含磷(lin)量(liang)3%~5%,肥效(xiao)高(gao),可(ke)利(li)用(yong)作汙泥(ni)堆(dui)肥。
改(gai)良型(xing)氧化溝(gou)工(gong)藝
改(gai)良型(xing)氧化溝(gou)在(zai)工(gong)藝上,是(shi)根據廢水水質(zhi)的(de)不(bu)同組合成(cheng)不(bu)同比(bi)例(li)的(de)厭(yan)氧(yang)-好氧-缺氧(厭(yan)氧)-好氧-缺氧-好氧的(de)生物處(chu)理工(gong)藝。這(zhe)種流(liu)程(cheng)不(bu)但(dan)有良(liang)好的(de)脫(tuo)氮(dan)除磷效(xiao)果(guo),而且在厭(yan)氧和(he)缺氧條件下(xia)能(neng)把(ba)大分(fen)子(zi)量(liang)的(de)有機(ji)物裂解成(cheng)易(yi)於好氧生物降(jiang)解(jie)的(de)低分(fen)子(zi)量(liang)有機(ji)物。

武(wu)威壹體化汙(wu)水處(chu)理設(she)備公(gong)司(si)技術(shu)特點與優(you)勢:
投資費用低
改(gai)良型(xing)氧化溝(gou)工(gong)藝采(cai)用(yong)微孔(kong)曝氣(或(huo)大功率(lv)機(ji)械曝(pu)氣)與機(ji)械推(tui)流(liu)方式(shi)配(pei)合(he)運(yun)行(xing),可(ke)以使氧化溝(gou)設(she)計有效(xiao)水深(shen)達(da)到 5.0米(mi)以上,占地(di)面積大幅減(jian)小(xiao),投資費用大幅降(jiang)低。
運(yun)行(xing)費用低
改(gai)良型(xing)氧化溝(gou)工(gong)藝采(cai)用(yong)高效(xiao)曝(pu)氣(qi)方(fang)式(shi),工藝根(gen)據進水水質(zhi)地(di)不(bu)同可(ke)調節回流(liu)汙泥(ni)分(fen)配(pei),可(ke)大幅節(jie)省(sheng)設(she)備運行(xing)費用,從(cong)而(er)降(jiang)低運(yun)行(xing)費用。
運行(xing)管理(li)方便
改(gai)良型(xing)氧化溝(gou)工(gong)藝成(cheng)熟,運(yun)行(xing)穩定,常(chang)規管(guan)理方(fang)便。
CASS 工藝
CASS(Cyclic Activated S1udge System) 工(gong)藝是(shi)普(pu)通 SBR 工藝的(de)壹(yi)種改(gai)進型(xing)工(gong)藝。 CASS 反(fan)應池(chi)由預反應區(qu)和主反應區(qu)組成,預反應區(qu)控制(zhi)在(zai)缺氧狀態(tai),因此,提(ti)高了(le)對難(nan)降(jiang)解(jie)有機(ji)物的(de)去(qu)除(chu)效(xiao)果(guo)提高(gao)。 CASS 進水是(shi)連續(xu)的(de),因此進水管(guan)道(dao)上 無電(dian)動(dong)控(kong)制(zhi)閥(fa) ,單個(ge)池(chi)子(zi)可(ke)獨立(li)運(yun)行(xing) 。
CASS 工藝可(ke)以根據脫(tuo)氮(dan)除磷效(xiao)果(guo)的(de)要(yao)求(qiu),將(jiang)預反應區(qu)分(fen)成厭(yan)氧、缺氧兩段(duan)。在(zai)工藝運(yun)行(xing)過(guo)程(cheng)中,可(ke)根據實際汙泥(ni)性(xing)狀和(he)除(chu)磷要求(qiu)選擇回流(liu)裝置的(de)開啟。
CASS 工藝處(chu)理流(liu)程(cheng)簡圖(tu)如下(xia):
技(ji)術(shu)特點與優(you)勢:
建設(she)費用低
CASS工(gong)藝較普(pu)通活(huo)性(xing)汙(wu)泥(ni)法省(sheng)去(qu)了(le)初(chu)沈池(chi)、二(er)沈池(chi),工(gong)藝流(liu)程(cheng)簡潔,布(bu)局緊(jin)湊(cou),壹次(ci)建設(she)費用低。
運(yun)行(xing)費用省
CASS工藝由於曝氣地(di)周(zhou)期(qi)性(xing),池(chi)內(nei)溶解氧濃(nong)度是(shi)變化的(de),在(zai)每壹(yi)周(zhou)期(qi)開始時,氧(yang)濃(nong)度梯度(du)大,傳遞效(xiao)率(lv)高(gao),節(jie)省運行(xing)費用。
運行(xing)管理(li)簡單可(ke)靠
CASS工藝控(kong)制(zhi)系(xi)統(tong)簡單,不(bu)易(yi)發(fa)生汙泥(ni)膨脹(zhang),運(yun)行(xing)安全(quan)可(ke)靠,並且汙泥(ni)產(chan)量少。
傳統活(huo)性(xing)泥(ni)技術(shu)
活(huo)性(xing)泥(ni)技術(shu)就是(shi)指(zhi)利(li)用(yong)活(huo)性(xing)泥(ni)去(qu)除(chu)生活(huo)汙水中有機(ji)物的(de)技(ji)術(shu)。處(chu)理方(fang)法(fa)如(ru)下(xia)。首(shou)先,汙水、活(huo)性(xing)泥(ni)同時(shi)進入(ru)曝(pu)氣(qi)池(chi)內(nei)。然後(hou)再在曝氣(qi)池(chi)中送(song)入(ru)空(kong)氣,這(zhe)樣(yang)汙(wu)水和(he)活(huo)性(xing)泥(ni)就能(neng)進行(xing)充分(fen)的(de)融(rong)合(he),進而(er)發(fa)生化學反應。接(jie)著,將上述反應產(chan)物送到二(er)次(ci)沈澱(dian)池(chi),在(zai)二次沈澱池(chi)裏(li)主要進行(xing)的(de)是(shi)分(fen)離工(gong)藝。在(zai)第(di)三(san)步中被分(fen)離出(chu)來(lai)的(de)活(huo)性(xing)泥(ni)通過(guo)特制(zhi)的(de)回(hui)流(liu)裝置可(ke)以再次進入(ru)曝(pu)氣(qi)池(chi),達(da)到重(zhong)復(fu)利(li)用(yong)的(de)目(mu)的(de)。活(huo)性(xing)泥(ni)技術(shu)操(cao)作簡單,得(de)到了(le)廣泛的(de)應用。
序(xu)批式(shi)活(huo)性(xing)泥(ni)法
序(xu)批式(shi)活(huo)性(xing)泥(ni)法簡稱(cheng)SBR法,此(ci)法(fa)中重(zhong)要的(de)是(shi)水中大量的(de)微(wei)生物,它(ta)們可(ke)以充分(fen)分(fen)解水中的(de)汙(wu)染物。其(qi)發(fa)揮主要作(zuo)用(yong)的(de)裝(zhuang)置是(shi)壹個(ge)反(fan)應池(chi),該(gai)反(fan)應池(chi)不(bu)僅能(neng)發(fa)揮曝(pu)氣池(chi)所擁(yong)有的(de)作(zuo)用(yong),也有沈(chen)澱(dian)池(chi)具(ju)有的(de)沈(chen)澱(dian)功(gong)能(neng),而且序批式(shi)活(huo)性(xing)泥(ni)法處(chu)理汙(wu)水時(shi)沒有汙(wu)泥(ni)回流(liu)裝置。